设备主要用于单、多晶硅太阳能电池片生产,扩散前的绒面腐蚀和清洗。
工艺过程为：上料→HF+HNO3腐蚀→QDR+氮气鼓泡+喷淋→KOH腐蚀→QDR+氮气鼓泡+喷淋→HCl腐蚀→QDR+氮气鼓泡+喷淋→下料→离心机甩干(离线)，全程PLC控制，触摸屏操作。
整体采用德国10mm （5MM）厚NPP板或PP板雕刻后焊接组合加工而成，槽体配置可实现腐蚀或后残留在片子上的化学液及污染颗粒的冲洗祛除功能。采用龙门式机械手方式移动，其工艺时间可以自行调节，酸碱槽具有自动补液装置，可实现无间断生产。能显示温度曲线、浓度变化曲线，及各个工位的工作状态。具有设备报警说明，报警历史查询功能。
对清洗用纯水有电阻率监测装置，能存储10个以上工艺方案，适用于投产厚度为160±30～200±30微米的硅片，硅片产能不低于1200片/小时，设备开工率＞92﹪，碎片率≤3‰。设备由安装在槽体底部的快排阀、DI注入孔（包括氮气鼓泡）及顶部左右两侧的DI喷嘴实现槽体的快速注入与排放。
快排冲洗槽（QDR）的工作过程由独立K200型专用控制器保证。它包括工艺时间、冲洗次数设置、工作完成提示以及过程中的故障报警、状态提示等功能。设备性能稳定可靠，被广泛应用于太阳能电池行业。
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